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光學薄膜清洗用超純水設備zl-bm001

光學薄膜(mo)清(qing)洗用超純水設(she)備

  設備參數:
名稱:光學薄膜清洗用超純水設備
型號:zl-bm001
操作壓力:5(Mpa)
水電阻率:18
出水量:1-100
外形尺寸:18000(cm)
電壓:380(V)
水質:超純水
功率:130(w)
電導率:2
脫鹽率:90(%)
單機動力:1-100(/h)
    光學薄膜清洗用超純水設備在設計上,采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保(bao)處(chu)理(li)(li)后(hou)(hou)的超純水水質確保(bao)處(chu)理(li)(li)后(hou)(hou)出水電阻(zu)率達到18.2 MΩ.cm。關(guan)鍵(jian)設備(bei)及材料均(jun)采(cai)用(yong)可靠產品,采(cai)用(yong)PLC控制(zhi),全(quan)套(tao)系統自動化程度高,系統穩(wen)定性好(hao)。大大節省(sheng)人(ren)力成本(ben)和維(wei)護成本(ben),水利用(yong)率高,運(yun)行可靠,經濟(ji)合理(li)(li)。

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