光電行業用超純水設備

　　設備參數：
　　名稱：光電行業用超純水設備
　　型號：zl-gd001
　　操作壓力：小于1.6（Mpa）
　　操作壓力：0.3（Mpa）
　　水電阻率：18
　　出水量：3
　　外形尺寸：1000*3000（cm）
　　電壓：380（V）
　　水質：200
　　功率：5.5（w）
　　電導率：10
　　脫鹽率：99.7（%）
　　單機出力：3（/h）

　　新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
　　應用場合：
　　☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
　　☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
　　☆高品質顯像管、螢光粉生產；
　　☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
　　☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；
　　☆實驗室和中試車間；
　　☆汽車、家電表面拋光處理；
　　☆光電產品；
　　☆其(qi)他(ta)高科技精(jing)微產品(pin)；

光電行業超純水設備

　　光電行業水質標準：
　　我公司電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國(guo)(guo)電子(zi)工業(ye)(ye)部電子(zi)級水(shui)(shui)質技術標(biao)準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biao)準）、我國(guo)(guo)電子(zi)工業(ye)(ye)部高純(chun)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質試行標(biao)準、美國(guo)(guo)半導體工業(ye)(ye)用純(chun)水(shui)(shui)指標(biao)、日本(ben)集成(cheng)電路水(shui)(shui)質標(biao)準、國(guo)(guo)內外大規模(mo)集成(cheng)電路水(shui)(shui)質標(biao)準。