半導體行業產品清洗用超純水設備

　　設備參數：
　　名稱：半導體行業產品清洗用超純水設備
　　型號：zl-bdt001
　　操作壓力：1.0Mpa（Mpa）
　　水電阻率：18MΩ·cm
　　出水量：500L/H
　　外形尺寸：160*100*160（cm）
　　電壓：380（V）
　　水質：0.55
　　功率：380（w）
　　電導率：0.06
　　脫鹽率：99.999（%）　　
　　超純水設備是既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。因此水的質量相當重要。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。    
　　EDI高純(chun)水(shui)設(she)(she)備(bei)(bei)作(zuo)為制取(qu)超純(chun)水(shui)的(de)設(she)(she)備(bei)(bei)，作(zuo)為反(fan)滲透設(she)(she)備(bei)(bei)后的(de)二次除鹽(yan)設(she)(she)備(bei)(bei)，可以(yi)制取(qu)出高達(da)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微(wei)電(dian)子工(gong)業(ye)，半導體工(gong)業(ye)，發(fa)電(dian)工(gong)業(ye)，制藥行業(ye)和(he)(he)實(shi)驗室。也可以(yi)作(zuo)為制藥蒸餾水(shui)、食物和(he)(he)飲料生產用水(shui)、發(fa)電(dian)廠(chang)的(de)鍋爐的(de)補給水(shui)，以(yi)及其它應用高純(chun)水(shui)。

　　相關工藝：超純水(shui)設備工藝流(liu)程